Please be patient while the object screen loads.
Электронная библиотека (репозиторий)
Томского государственного университета
English
Русский
Home
Show
All
Show
Quick Collection
Browse ↓
Communities & Collections
By Title
By Creator
By Subject
By Date
Additional Resources
Search History
Эндаумент фонд ТГУ!
Впиши своё имя в историю университета
-
Сделать пожертвование
-
Advanced Search
Preview
Add to "Quick Collection"
Description
Size
Format
SOURCE1
571 KB
Adobe Acrobat PDF
Read
Download
#ионная имплантация
#интерметаллидные слои
#интерметаллидные нанофазы
Title
Formation of intermetallic layers at high intensity ion implantation
Creator
Ryabchikov, A. I.
|
Sharkeev, Yuriy P.
|
Stepanov, I. B.
|
Fortuna, S. V.
|
Sivin, D. O.
|
Kurzina, Irina A.
|
Prokopova, T. S.
|
Melnik, I. A.
|
Kozlov, E. V.
Contributor
Томский государственный университет Физический факультет Научные подразделения ФФ
-
Томский государственный университет Химический факультет Научные подразделения ХФ
Date
2002
Relationships
Show Relationship Browser for this Object
collection(s)
Физический факультет
|
Химический факультет
Identifier
vtls:000463839
DOI:10.1016/S0257-8972(02)00275-X
http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000463839
Type
статьи в журналах
Language
eng
Created: 20-11-2013
1 Visitors
1 Hits
0 Downloads
Физический факультет
Химический факультет
Formation of intermetallic layers at high intensity ion implantation
^
1 Visitors
1 Hits
0 Downloads
